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薛偉傑:「光刻機第一股」擬登科創板 宜保持理性

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薛偉傑:「光刻機第一股」擬登科創板 宜保持理性

文章發表人 mtr 發表於 2020-06-30, 09:20

http://www.u-precision.com/
https://xueqiu.com/S/OC834733

2020/6/30

【明報專訊】據內地媒體近日報道,內地光刻機雙工作台生產商北京華卓精科,計劃在上海科創板招股上市(IPO),其上市申請已獲得上海交易所受理。由於美國在半導體製造技術方面持續遏制中國,有內地市場人士認為,隨着事件逐步催化,A股光刻機概念股行情將會起飛,所有光刻機零部件生產商都會受惠。不過,本欄認為,投資者在支持國產替代的同時,也應保持理性分析。

國產28nm光刻機傳明年量產

內地媒體近日報道稱,上海微電子(SMEE)有望在2021至2022年交付第一部可以達到28nm製程的國產沉浸式深紫外(DUV)光刻機。甚至有說,該項目為「十三五」規劃的目標之一,設定於今年12月要交給有關方面驗收,即是暗示在驗收後,2021至2022年正式量產交貨應無問題,有望初步解決內地完全倚賴從外國進口先進光刻機的問題。

據悉,上海微電子為內地技術最好及最主要光刻機生產商,擁有超過2400項專利。暫時來說,其深紫外(DUV)光刻機最多只能夠達90nm的晶片製程,這已經是該公司研究17年才造出的最先進光刻機,與荷蘭ASML差距非常大。

雙工作台由華卓精科供應

此外,上海微電子只是負責光刻機整體設計和技術集成,零部件由多家內地企業供應。例如,光源系統由北京科益虹源提供,投影物鏡系統(鏡頭)由北京國望光學提供,曝光光源系統由國科精密提供,雙工作台由北京華卓精科提供,浸沒系統由浙江啟爾機電提供。據悉,光刻機可分成10多個子系統,其中光源系統、投影物鏡系統(鏡頭)、工作台被認為是最核心三個子系統。

光刻機運作過程非常複雜,簡單來說,是利用紫外光和約20塊鏡片折射對焦,將晶片電路的設計圖縮小至四分之一,以投影在塗上光刻膠的矽晶圓上。以往光刻機只有一個工作台,需要先測量,再曝光,ASML為業內率先設計出兩個工作台,實現測量與曝光同時進行。現時看來,上海微電子新款光刻機(至少將會達到28nm製程)也採用雙工作台設計,華卓精科就是其雙工作台的生產商。

業內消息說,上海微電子這部光刻機SSA/800-10W將會在今年底正式「下線」,單次曝光可以直接實現28nm製程,從而一舉超越日本的Nikon和Canon(兩者製程應在30nm至40nm之間),成為繼荷蘭ASML之後,全球第二先進的光刻機生產商。

多次曝光間接達更精密製程
有說這部光刻機經多次曝光下,能夠間接實現11nm製程晶片生產。如果將來改用華卓精科套刻精度更高的工件台,在多重曝光下,將能夠實現7nm製程的晶片生產。所謂多重曝光,大意是指使用原本28nm製程的光刻機,但將14nm設計的晶片的電路分開2次投影,將7nm設計的晶片的電路分開4次來投影。這樣,便可以間接達到更精密的晶片製程。內地某證券行一份100餘頁的光刻機行業分析報告亦有這個說法,特別引人注目。

筆者不敢說這個方法不行,但亦非容易做得到。不然,Nikon和Canon的光刻機早就做了。而上海微電子現時的90nm製程光刻機,也可以透過雙重曝光,達到45nm製程;透過四重曝光,達到22.5nm製程。再者,使用多重曝光的方式,也會令生產時間以倍數的延長,令產量大減,究竟是否合乎成本效益,亦是另一個問題。

當然,若將之視為被技術封鎖之下,無辦法中的辦法,應該沒有人會反對。

明報記者 薛偉傑
[薛偉傑 科技觀潮]
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